Sasaran Sputtering Tungsten
2. Katalog: Produk Tungsten
3. Bahan: Tungsten
4. Kesucian: Lebih besar daripada atau sama dengan 99.95%
5. Ketumpatan: 19.3 g\/cm³
6. Bentuk: sasaran satah, sasaran berputar, sasaran sputtering, sasaran persegi, sasaran tiub, sasaran tersuai dengan bentuk yang tidak teratur.
7. Spesifikasi: disesuaikan, berat sasaran kurang daripada atau sama dengan 300kg\/pcs.
8. Permukaan: Permukaan bergulung sejuk, permukaan yang dibersihkan kimia, permukaan yang digilap
9. Permohonan: Salutan Sputtering Magnetron
10. Standard: ASTM B760, GB\/T 3875-83
11. Tempat Asal: Luoyang, China.
Pengenalan
Sasaran sputtering tungsten adalah bahan-bahan kemelut tinggi yang digunakan dalam proses sputtering, kaedah pemendapan wap fizikal (PVD) yang digunakan untuk mendepositkan filem nipis ke permukaan. Tungsten adalah logam yang dikenali untuk titik lebur yang tinggi (kira -kira 3422 darjah), kekerasan, dan kekonduksian elektrik yang sangat baik, menjadikannya bahan yang ideal untuk sasaran sputtering dalam pelbagai industri, seperti elektronik, optik, dan pembuatan semikonduktor.
Ciri -ciri
Rintangan suhu tinggi yang sangat baik
Tungsten mempunyai titik lebur sehingga 3422 darjah, memberikan rintangan suhu tinggi yang sangat baik. Di samping itu, semasa proses sputtering, sasaran tungsten dapat menahan pengeboman ion tenaga tinggi dan tidak mudah cacat atau terdegradasi. Ini membolehkan sasaran tungsten beroperasi dengan stabil dalam persekitaran suhu tinggi dan tenaga tinggi.
Rintangan kakisan
Bahan tungsten mempunyai pengoksidaan yang baik dan rintangan kakisan. Dalam persekitaran suhu tinggi atau kimia, sasaran sputtering tungsten secara berkesan dapat menahan pengoksidaan, asid, dan kakisan alkali, memastikan sasaran mengekalkan prestasi yang baik semasa proses sputtering.
Pelbagai kegunaan
Produk kami digunakan secara meluas dalam semikonduktor, optoelektronik, bahan magnet, dan bidang lain. Dalam industri semikonduktor, filem nipis tungsten digunakan dalam proses metalisasi litar bersepadu. Dalam bidang optik, filem tip tip tungsten digunakan untuk mengeluarkan reflektor atau bahan salutan.
Komposisi Kimia Produk
|
Komposisi kimia sasaran tungsten |
|||||||||||||||
|
W Kandungan (%) |
Kandungan kekotoran (ppm) |
||||||||||||||
|
Ti |
Na |
C |
Ca |
Mg |
SI |
Al |
Sebagai |
Fe |
ni |
Pb |
P |
Cu |
/ |
/ |
|
|
Lebih besar daripada atau sama dengan 99.95% |
Kurang dari atau sama dengan 10 ppm |
Kurang daripada atau sama dengan 5 ppm |
Kurang dari atau sama dengan 20 ppm |
Kurang dari atau sama dengan 10 ppm |
Kurang daripada atau sama dengan 7ppm |
Kurang dari atau sama dengan 10 ppm |
Kurang daripada atau sama dengan 5 ppm |
Kurang dari atau sama dengan 10 ppm |
Kurang dari atau sama dengan 10 ppm |
Kurang daripada atau sama dengan 6 ppm |
Kurang daripada atau sama dengan 1 ppm |
Kurang dari atau sama dengan 8 ppm |
Kurang daripada atau sama dengan 5 ppm |
/ |
/ |
Parameter Prestasi Produk
|
Parameter Prestasi Sasaran Tungsten Sputtering |
|
|
Dimensi sampel |
12mm × 80mm × 100mm |
|
Kesucian |
Lebih besar daripada atau sama dengan 99.95% (3n5) |
|
Struktur kristal |
Padu berpusatkan badan (BCC) |
|
Saiz bijian |
43μm |
|
Ketumpatan |
19.25 g\/cm3 (pinggul) |
|
Titik lebur |
3410 ijazah (+ 20 ijazah) |
|
Titik mendidih |
5900 darjah |
|
Kekonduksian terma |
173 W/(m·K) |
|
Kekonduksian elektrik |
18.3×10-6 S/m |
|
Pekali pengembangan haba |
4.5×10-6/K-1 |
|
Kekerasan |
HV5: 280-310 |
|
Kemasan permukaan |
Ra kurang daripada atau sama dengan 0. 4μm |
Proses pengeluaran produk
Cool tags: sasaran sputtering tungsten, China tungsten sputtering sasaran pengeluar, pembekal, kilang, karbida tungsten simen, lanthanated, Tungsten 2.4 mm, Manik karbida tungsten, logam tungsten paling keras, suhu lebur tungsten
Sepasang
Tungsten Threaded RodSeterusnya
Bot Penguap TungstenAnda mungkin juga berminat
Hantar pertanyaan